反射小角Ｘ線散乱法を用いた Low-k 膜の空孔サイズ分布の評価

集積回路の層間絶縁材料として利用されるポーラス膜（多孔質膜）では、機械的特性の低下や空孔内の配線材料の拡散の問題があり、均一で小さな空孔サイズの絶縁膜が求められています。薄膜中のナノメートルサイズの粒子・空孔サイズを評価する方法として反射X線小角散乱法があります。反射X線小角散乱法では、入射角と出射角を0.05～0.1˚ずらして小角領域の散乱X線を計測することで、試料表面からの強い鏡面反射X線を避けながら、薄膜からの微弱な散乱X線を効率的に計数できます。得られたプロファイルを、薄膜中でのX線の屈折や吸収を考慮して解析することで、粒子・空孔サイズ分布を評価することができます。