AppNote B-XRD2030: X線反射率法による金属薄膜の膜厚の面内均一性評価
X線反射率法による金属薄膜の膜厚の面内均一性評価
薄膜材料で構成される各種デバイスの特性は薄膜の膜厚や緻密性の影響を受けるため、それら評価は大変重要です。X線反射率法は単層・多層にかかわらず、ナノスケールオーダーの膜薄の膜厚、密度、表面/界面ラフネスを非破壊で分析する手法です。結晶質・非晶質を問わず評価することができ、可視光に不透明な膜にも適用することが可能です。
薄膜材料で構成される各種デバイスの特性は薄膜の膜厚や緻密性の影響を受けるため、それら評価は大変重要です。X線反射率法は単層・多層にかかわらず、ナノスケールオーダーの膜薄の膜厚、密度、表面/界面ラフネスを非破壊で分析する手法です。結晶質・非晶質を問わず評価することができ、可視光に不透明な膜にも適用することが可能です。