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卓上型全反射蛍光X 線分析装置 NANOHUNTER II  -入射角度変更による表面分析-

AppNote B-XRF3003: 卓上型全反射蛍光X 線分析装置 NANOHUNTER II  -入射角度変更による表面分析-

 

全反射蛍光X線分析法(TXRF)は、試料すれすれに入射したX線により表面近傍元素を効率良く励起でき、かつバックグラウンドの原因となる散乱X線がほとんど発生しない測定手法です(図1)。さらに入射X線角度を高めに変更することで、励起深さを変えることが可能となり、情報深さの異なる測定ができます。

リガクのTXRF製品

卓上型全反射蛍光X線分析装置 NANOHUNTER II

液体の高感度超微量元素分析を可能にします。 

全反射蛍光X線分析装置 TXRF 3760

~200mmウェーハのNa~Uまでの汚染元素を極微量で分析。

全反射蛍光X線分析装置 TXRF-V310

遷移金属で106atoms/cm2 レベルの検出下限。

全反射蛍光X線分析装置 TXRF 310 Fab

TXRF分析は、すべての製造工程における汚染を測定。