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薄膜分析

薄膜分析

エピタキシャル結晶の格子定数測定

X線回折は、エピタキシャル層などの薄膜材料の研究に特に有効です。結晶格子定数の精密測定法によって、エピタキシャル層と基板の格子の格子不整合を高精度に決定できます。 バブルメモリー用の磁性ガーネット薄膜や、LED、高速トランジスター、赤外線検出器など重要なエレクトロニクス製品に用いられるドープされたヒ化ガリウム薄膜などのエピタキシャルデバイスにおいて、格子定数の整合/不整合は重要な要素です。高温X線回折測定を行い、温度に対して格子定数をプロットすることにより、熱膨張係数を求めることもできます。

高分解能ロッキングカーブ測定は、エピタキシャル合金膜の組成と厚さを高精度に調べるためによく用いられます。様々な解像度の光学系を利用できるリガクのX線回折装置SmartLabは、このような目的に最適です。SmartLabの光学系は、モジュール方式を採用しているため、ユーザーは目的に応じて選んだ光学素子を容易に交換できます。入射側の素子としてはGe(220)×2、Ge(220)×4、Ge(400)×2、Ge(400)×4モノクロメーターなど、受光側にはGe(220)×2モノクロメーターなどがあります。これらの光学モジュールは、制御用のコンピューターによって自動認識され、調整も自動で行われます。自動可変受光スリットも使用可能です。

リガクの関連装置


X線回折装置(XRD)

全自動多目的X線回折装置 SmartLab

装置が最適条件を教えてくれるガイダンス機能を実現。

全自動多目的X線回折装置 SmartLab SE

リガクの分析ノウハウを凝縮した「ガイダンス」機能を搭載。

試料水平型多目的X線回折装置 Ultima IV

あらゆる用途のための高性能、多目的XRDシステム。

波長分散蛍光X線分析装置

走査型蛍光X線分析装置 ZSX Primus IV

(Be)から(U)までの主要元素および微量元素の迅速な定量。

走査型蛍光X線分析装置 ZSX Primus IVi

下面照射タイプの走査型蛍光X線分析装置

波長分散小型蛍光X線分析装置 Supermini200

高出力200Wで広範囲なアプリケーションに対応

エネルギー分散蛍光X線分析装置

エネルギー分散型蛍光X線分析装置 NEX CG

環境分析や産業廃棄物、リサイクル原料等の広範囲に対応。

エネルギー分散型蛍光X線分析装置 NEX DE

ppmオーダーから主成分の元素分析が行えます。

エネルギー分散型蛍光X線分析装置 NEX QC+ QuantEZ

半定量分析等,高機能ソフトウェアを搭載したPCモデル.。
 

アプリケーション・ノート

関連するアプリケーションノートをご紹介します


X線回折装置(XRD)

XRD

WDXRF

XRD, SAXS

EDXRF