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粉末X線回折法による高分子の評価

AppNote XRD1004: 粉末X線回折法による高分子の評価

 

粉末X線回折法による高分子の評価

粉末X線回折法による高分子材料の評価は、広角領域と小角領域の解析に大別されます。広角領域の解析では、数度から数十度(2θ)の角度範囲に得られるデータを取り扱い、結晶構造の決定や結晶相の同定、結晶性や結晶の配向性などを評価します(図1)。一方、小角領域の解析では、数度(2θ)以下の角度範囲に得られるデータを取り扱い、高分子材料に特有の結晶・非晶質の繰返し周期である、たとえばラメラ構造の周期や、その配向性を評価します。観測される干渉性散乱*1が非常に小さな角度に生じるのは、ラメラ構造の周期が数 nm から数十 nm であるためです。高分子材料では、広角領域と小角領域を合わせて評価しなければならない部分が、無機材料の評価とは異なります。

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