
ナノスケールキャラクタリゼーション用のXRD、XRR、SAXS
ナノテクノロジーは、生物学、化学、物理学、工学などの幅広い分野にまたがっているという点において非常にユニークな分野です。 ある対象がナノテクノロジーに分類される理由は、一般的に、構造内に見られる寸法であり、対象材料そのもの、またはその成分が10億分の1(10-9)メートルのオーダーである場合にナノテクノロジーの対象とされます。このため、半導体デバイスからナノ粒子まで、これらの研究開発には構造内の原子間距離や分子間距離の正確な測定が欠かせないものとなっています。 X線の波長はナノ構造のサイズと同じスケールであるため、X線回折(XRD)および関連技術はナノテクノロジー研究者にとっての主要なツールとなっています。 X線反射率測定法(XRR)では、膜厚、ラフネス、密度を決定できます。 高分解能X線回折は、膜厚、ラフネス、化学組成、格子間隔、応力緩和などを測定することができます。 また、X線散漫散乱は、非等方的な構造周期性や、歪、密度、空孔の存在による構造揺らぎを調べるために使用されます。 インプレーン斜入射回折は、非常に薄い有機膜や無機膜の膜面と垂直な結晶面間の相関関係、および深さ方向のプロファイリングを調べるために使われます。 最後に、小角X線散乱(SAXS)は、固体または溶液中に存在するナノ粒子のサイズ、形状、分布、および配向を決定することができます。 リガクはその技術と専門知識により、ナノテクノロジー用途向けの多数のX線回折製品を提供いたします。
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