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半導体・電子材料・電子部品

半導体関連装置

膜厚/組成およびウェーハ汚染評価ツール

リガクは、半導体製造上の課題を解決するためのX線分析機器を設計、製造して、35年以上の実績を持つグローバル市場のリーダーです。リガクの分析機器は、インファブプロセス制御の計測や薄膜および材料の特性評価が可能です。最先端材料の研究開発に利用頂いています。歩留まり向上とプロセス開発には、汚染測定用のプロセス全反射蛍光X線(TXRF)、気相分解-全反射蛍光X線(VPD-TXRF)機器及び24時間年中無休のサービスを提供しています。

X線回折(XRD)、蛍光X線(XRF)、X線反射率法(XRR)、およびX線トポグラフィー(XRT)などの分析手法は、薄膜の重要なプロセスパラメーターである厚さ、組性、ラフネス、密度、多孔性、および結晶構造と結晶構造の欠陥を測定することが可能です。リガクのX線分析装置は電子材料、電子部品などの先端材料の開発や評価には必須の分析機器となっています。

アプリケーション・ノート

関連するアプリケーションノートをご紹介します

熱分析装置

X線回折装置(XRD)

工業用X線イメージング装置

発生ガス分析装置, 熱分析装置

リガクの関連装置


X線回折装置(XRD)

全自動多目的X線回折装置 SmartLab

装置が最適条件を教えてくれるガイダンス機能を実現。

全自動多目的X線回折装置 SmartLab SE

リガクの分析ノウハウを凝縮した「ガイダンス」機能を搭載。

単結晶X線構造解析 低分子関連装置

HPCX線検出器 HyPix-6000

単結晶X線回折用の大面積ハイブリッド光子計数検出器

単結晶X線構造解析用HPCX線検出器 HyPix-Bantam

XtaLAB Synergy-i および XtaLAB mini II 用HPC 検出器

HPCX線検出器 HyPix-6000

単結晶X線回折用の大面積ハイブリッド光子計数検出器

X線トポグラフ装置

ハイスループット&高分解能X線トポグラフイメージングシステム XRTmicron

転位などの結晶欠陥、表面への貫通転位やエピタキシャル層の欠陥などを検出

半導体関連装置

薄膜評価用蛍光X線分析装置 WaferX 310

300mm、200mmウェーハ上の膜厚・組成を、同時に分析。

薄膜評価用蛍光X線分析装置 WDA-3650

薄膜の膜厚と組成を、同時に、非破壊、非接触で分析。

薄膜評価用蛍光X線分析装置 AZX 400

波長分散型蛍光X線分析(WDX)装置の最上位モデル。

インラインX線膜厚・密度モニター MFM 310

パターンウェーハ対応のインライン膜厚・密度モニター。

全反射蛍光X線分析装置 TXRF 3760

~200mmウェーハのNa~Uまでの汚染元素を極微量で分析。

全反射蛍光X線分析装置 TXRF 3800e

5×1010 atoms/cm2 の汚染検出を僅か20分で完了。

全反射蛍光X線分析装置 TXRF 310 Fab

TXRF分析は、すべての製造工程における汚染を測定。

全反射蛍光X線分析装置 TXRF-V310

遷移金属で106atoms/cm2 レベルの検出下限。

Hybrid XRF and Optical metrology FAB tool Onyx

XRF and optical metrology tool for blanket and patterned wafers; up to 300 mm wafers

X線膜厚・密度測定装置 XHEMIS EX-2000

蛍光X線(XRF)およびX線反射率(XRR)による非接触、非破壊な膜厚・密度測定装置。標準試料なしで膜厚測定が可能

熱分析装置

示差熱-熱重量同時測定装置

重量変化と吸熱・発熱反応の測定ができる熱分析装置です。

 

熱機械分析装置 

荷重による物質の変形を温度の関数として測定する熱分析装置です。

 

示差走査熱量計
材料の融点などの反応温度や反応エネルギーを簡単に測定できる熱分析装置です。

横型膨張計

試料内に発生する熱膨張・収縮の変化量を再現性良く検出する熱分析装置です。

水蒸気雰囲気示差熱天秤

水蒸気雰囲気で容易にTG-DTA測定が可能な熱分析装置。

 

示差熱天秤-フーリエ変換赤外分光分析複合システム

示差走査熱量計

微小なピークも見逃さない低ノイズも実現した熱分析装置です。

示差熱-熱重量同時測定装置

試料観察機能付き差動型示差熱天秤

 

試料観察示差走査熱量計
熱分析を実行しながら視覚的に試料変化を観察可能な熱分析装置です。

Thermo plus EVO2ソフトウェア
Thermo plus EVO2シリーズ装置の測定・解析ソフトウェア

高温DSC
1500℃までの高温測定

熱伝導率測定装置
粉末・ゲル・液体・固体試料の熱伝導率が簡単に測定できる熱分析装置です。

検出器

ハイブリッド型多次元ピクセル検出器 HyPix-3000

粉末の高速測定から薄膜の2次元測定まで対応。

湾曲HPC X線検出器 HyPix-Arc 150°

同じ条件で高角度から 低角度までを一度に測定。

湾曲HPC X線検出器 HyPix-Arc 150°

同じ条件で高角度から 低角度までを一度に測定。

発生ガス分析装置

 

示差熱天秤-光イオン化質量分析同時測定システム

発生ガスを高精度に質量分析。分子を壊さずにそのまま計測できる熱分析装置です。

昇温脱離ガス分析装置

半導体関連ならびに電子材料やセラミックスなどからの微量ガスの脱離挙動を、正確な温度で高感度分析

昇温脱離ガス光イオン化質量分析装置

多成分ガスが同時生成する場合でも、リアルタイムにガスを弁別分析

示差熱天秤-ガスクロマトグラフィ質量分析同時測定システム

熱分析だけでは判断が困難な化学反応情報を、同時に高感度測定できる熱分析装置です。

熱刺激電流測定システム

TS-POLARはフェムトアンペア(fA=10-15A)オーダーまで検出が可能な熱刺激電流測定装置(Thermally Stimulated Current:TSC)です。

試料観察型示差熱天秤-ガスクロマトグラフィ質量分析同時測定システム

試料観察をしながらTG-GCMS測定

工業用X線イメージング装置

工業用デスクトップ3DマイクロX線CT
CT Lab HX

デスクトップ型省エネルギーで高速・広視野・高解像度を実現

工業用デスクトップ3DマイクロX線CT
CT Lab HX

デスクトップ型省エネルギーで高速・広視野・高解像度を実現