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TPD type V

 

高真空下に置かれた試料を一定速度で加熱させながら、脱離していく化学種による圧力や脱離化学種の量変化を、質量分析計による脱離ガス分析システムです。固体表面の吸着種を同定したり、吸着量や吸着状態、表面からの脱離過程など詳細な情報が得られます。半導体関連ならびに電子材料やセラミックスなどからの微量ガスの脱離挙動を、正確な温度で高感度分析できます。

昇温脱離ガス分析装置 TPD type V

微量ガスの脱離挙動を、正確な温度で高感度分析

 

  • 熱分析で実績のある温度制御技術により正確な温度計測を達成しています。
  • コンパクトな赤外線加熱炉の採用により、高速クリーン加熱が可能になりました。
  • 脱離スペクトルの温度精度や分解能が向上しました。
  • 透明体サンプルや粉体サンプルもそのまま測定が可能です。
  • ガス化成分をMSイオン源に集中させるシステムを構築しました。(特許)
  • 装置を小型化し設置スペースを大幅に小さくしました。
  • 温度範囲:室温~1200℃、マスレンジ:1~200amu(オプション 1~410amu)、測定モード:TIC,SIM(最大16ch同時モニター),試料サイズ:Max 20W×20D×2T (mm)