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リガクの半導体関連装置

AZX 400 wavelength dispersive XRF for large samples

薄膜評価用蛍光X線分析装置 AZX 400

波長分散型蛍光X線分析(WDX)装置の最上位モデル。

MFM310   product image

インラインX線膜厚・密度モニター MFM 310

パターンウェーハ対応のインライン膜厚・密度モニター。

Onyx 3000product image

ハイブリッドXRFおよび光計測FABツール

300mm、200mmウェーハ上の各種薄膜の膜厚・組成を、同時に非破壊、非接触で分析可能なエネルギー分散型蛍光X線分析装置(ED-XRF)

WDA-3650  product image

薄膜評価用蛍光X線分析装置 WDA-3650

薄膜の膜厚と組成を、同時に、非破壊、非接触で分析。

WaferX 310   product image

薄膜評価用蛍光X線分析装置 WaferX 310

300mm、200mmウェーハ上の膜厚・組成を、同時に分析。

XHEMIS EX-2000

X線膜厚・密度測定装置 XHEMIS EX-2000

蛍光X線(XRF)およびX線反射率(XRR)による非接触、非破壊な膜厚・密度測定装置。標準試料なしで膜厚測定が可能

TXRF 3760  product image

全反射蛍光X線分析装置 TXRF 3760

~200mmウェーハのNa~Uまでの汚染元素を極微量で分析。

TXRF-V310  product image

全反射蛍光X線分析装置 TXRF-V310

遷移金属で106atoms/cm2 レベルの検出下限。

TXRF 310Fab  product image

全反射蛍光X線分析装置 TXRF 310 Fab

TXRF分析は、すべての製造工程における汚染を測定。