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Semiconductor metrology products

薄膜評価用蛍光X線分析装置 AZX 400

波長分散型蛍光X線分析(WDX)装置の最上位モデル。

AZX 400 wavelength dispersive XRF for large samples

インラインX線膜厚・密度モニター MFM 310

パターンウェーハ対応のインライン膜厚・密度モニター。

MFM310   product image

Hybrid XRF and Optical metrology FAB tool Onyx

XRF and optical metrology tool for blanket and patterned wafers; up to 300 mm wafers

Onyx 3000product image

薄膜評価用蛍光X線分析装置 WDA-3650

薄膜の膜厚と組成を、同時に、非破壊、非接触で分析。

WDA-3650  product image

薄膜評価用蛍光X線分析装置 WaferX 310

300mm、200mmウェーハ上の膜厚・組成を、同時に分析。

WaferX 310   product image

X線膜厚・密度測定装置 XHEMIS EX-2000

蛍光X線(XRF)およびX線反射率(XRR)による非接触、非破壊な膜厚・密度測定装置。標準試料なしで膜厚測定が可能

XHEMIS EX-2000

全反射蛍光X線分析装置 TXRF 3760

~200mmウェーハのNa~Uまでの汚染元素を極微量で分析。

TXRF 3760  product image

全反射蛍光X線分析装置 TXRF 3800e

5×1010 atoms/cm2 の汚染検出を僅か20分で完了。

TXRF 3800e  product image

全反射蛍光X線分析装置 TXRF-V310

遷移金属で106atoms/cm2 レベルの検出下限。

TXRF-V310  product image

全反射蛍光X線分析装置 TXRF 310 Fab

TXRF分析は、すべての製造工程における汚染を測定。

TXRF 310Fab  product image