Onyx 3000
- マイクロスポットX線ビームとパターン認識
- デバイス構造の2Dおよび3D光学特性
- ハイスループット、ブランケットおよび製品ウェーハの測定
- 幅広い材料と用途
- オングストロームからミクロンまでの厚さをカバーする高解像度と精度
- 軽元素感度のためのヘリウムパージ測定環境
- 300mm以下のウェーハ用に構成可能
- SEMIS2およびSEMIS8に基づく設計
ハイブリッドXRFおよび光計測FABツール
300mm、200mmウェーハ上の各種薄膜の膜厚・組成を、同時に非破壊、非接触で分析可能なエネルギー分散型蛍光X線分析装置(ED-XRF)
諸元/仕様
| 製品名 | Onyx |
| 手法 | 蛍光X線および光学顕微鏡 |
| 用途 | 極薄の単層フィルムから多層スタックまでを測定します。 BEOLおよびWLP構造の特性評価 |
| テクノロジー | マイクロスポットEDXRFおよび2D、3Dの光学顕微鏡を処理します |
| 主要コンポーネント | SEMIS2およびSEMIS8、マイクロスポットポリキャピラリーX線光学系に基づく設計 |
| オプション | SECS / GEM通信ソフトウェア、COLORSビームモジュール |
| 制御(PC) | 内部PC、MS Windows® OS |
| 本体寸法 | 1390 (W) x 2040 (H) x 2960 (D) mm |
| 質量 | 1250 kg （本体） |
| 電源 | 単相 208 VAC 50/60 Hz, 16A |