Skip to main content

低温XRD

低温XRD

温度による物質の挙動の変化を見る

非標準的周囲条件(室温以外)でのX線回折(XRD)は、in situ(その場)での測定が必要な動的過程の研究など、さまざまな用途に使用できます。 そのようなプロセスの例には、固相間相転移、微結晶成長、熱膨張などを含む反応があります。X線回折は、相同定、方位分布、微結晶サイズデータを提供することで、従来の熱分析技術(熱重量分析、示差走査熱量測定など)に対する非常に有益な補完手段として使用することができます。右に示すのは、SmartLabおよびUltima IV用のAnton Paar TTK 450低温・高温アタッチメントです。 液体窒素冷却による試料冷却および加熱機能により広い温度範囲を実現しており、さまざまなアプリケーションに使用できます。ビームナイフとオプションの無反射試料板を用いることで、低い2θ角での有機材料の測定も行えます。 温度範囲:-193 °C ~ 450 °C。雰囲気:空気、不活性ガス、真空(10⁻² mbar)。

リガクの関連装置

全自動多目的X線回折装置 SmartLab

装置が最適条件を教えてくれるガイダンス機能を実現。

全自動多目的X線回折装置 SmartLab SE

リガクの分析ノウハウを凝縮した「ガイダンス」機能を搭載。

試料水平型多目的X線回折装置 Ultima IV

あらゆる用途のための高性能、多目的XRDシステム。