Skip to main content

X線反射率(XRR)

X線反射率(XRR)

ウェハ上の多層膜の厚さ、密度、ラフネス


材料表面が粗い場合は、反射率はさらに急激に低下します。 基板となっているそのような材料の上に、異なる電子密度をもつ他の材料が均一に重なっている場合、基板と薄膜との間の界面および薄膜の自由表面からの反射X線は、加算的または減算的に互いに干渉し合い、干渉による振動パターンが生じます。 おおまかな近似では、試料によって散乱された強度は、電子密度のフーリエ変換の係数の二乗に比例します。 このようにして、測定された強度パターンから電子密度プロファイルを推定することができ、続いて、多層を特徴付ける垂直特性(層厚)ならびに横方向特性(界面または横方向層構造の粗さおよび相関特性)を決定することができます。 具体的には、膜厚は振動の周期性から、表面・界面の情報はと振動パターン振幅の角度依存性から決定することができます。

リガクの関連装置

全自動多目的X線回折装置 SmartLab

装置が最適条件を教えてくれるガイダンス機能を実現。

インラインX線膜厚・密度モニター MFM 310

パターンウェーハ対応のインライン膜厚・密度モニター。

X線膜厚・密度測定装置 XHEMIS EX-2000

蛍光X線(XRF)およびX線反射率(XRR)による非接触、非破壊な膜厚・密度測定装置。標準試料なしで膜厚測定が可能