概要:
薄膜材料の評価において、膜厚は最も評価されるパラメーターの一つです。X線を用いた測定では、反射(XRR)、回折(XRD)、蛍光(XRF)などの試料との相互作用により評価手法が異なります。
本セミナーでは膜厚評価を中心にそれぞれの手法の特徴について測定事例を交えながらご紹介いたします。
■X線回折(XRD)、反射率(XRR)
タイトル:『X線回折およびX線反射率法による薄膜試料の膜構造評価』
内容:高分解能ロッキングカーブ測定およびX線反射率法を用いた膜構造評価の特徴および測定時の要点をご説明します。また、マッピング測定事例もご紹介します。
■蛍光X線(XRF)
タイトル:『波長分散型蛍光X線分析法(WDXRF)による薄膜分析法』
内容:蛍光X線分析による付着量・膜厚分析の原理やZSX Guidanceソフトウェアによるレシピ作成のテクニックについてご紹介します。
Presenter
松田 渉(プロダクト本部 アプリケーションラボ XRF分析グループ)
原 智美(プロダクト本部 アプリケーションラボ 粉末・薄膜解析グループ)
Date/time (JST)
日時: 2023年 10月 27日(金) 14:00~15:20 発表(質疑応答含む)
定員:500名(無料:事前登録制)