AppNote B-XRD2027: ロッキングカーブ測定による単結晶基板の結晶方位の面内均一性評価
ロッキングカーブ測定による単結晶基板の結晶方位の面内均一性評価
薄膜材料の特性は単結晶基板や下地層の格子欠陥、配向性分布などの影響を受けるため、高性能な薄膜デバイスの開発においては、単結晶基板や下地層の面内均一性の評価も重要になります。ロッキングカーブ測定のXYマッピングでは、単結晶基板や下地層の結晶状態の面内均一性を、視覚的かつ定量的に評価することができます。
薄膜材料の特性は単結晶基板や下地層の格子欠陥、配向性分布などの影響を受けるため、高性能な薄膜デバイスの開発においては、単結晶基板や下地層の面内均一性の評価も重要になります。ロッキングカーブ測定のXYマッピングでは、単結晶基板や下地層の結晶状態の面内均一性を、視覚的かつ定量的に評価することができます。
