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プロセス制御・工程管理

プロセス制御

流体、ロール紙、加工状態等の、オンラインかつ準リアルタイムの分析

プロセス制御は、「生産品質管理」の中核となるものであり、これは特定のプロセスの出力を制御するためのアーキテクチャー、メカニズム、およびアルゴリズムを扱う、統計とエンジニアリングの一分野です。あるプロセスを制御するために統計的プロセス制御(SPC, statistics process control)モデルを応用する場合、一般的に重要なデータとして元素組成、化学組成、または分子構造などの分析情報が使われます。このように、多くのプロセス制御戦略において、X線分析技術は重要な役割を果たしています。

アトラインでの工程管理や品質管理目的にも、リガクは製造設備環境に向けてデザインした、さまざまなX線分析装置を提供しています。X線回折(XRD)は、製薬生産における多形体の検証に使われるほか、ポリマーのバッチにおける結晶化度測定にしばしば使用されます。 蛍光X線分析(XRF)は、セメント製造における金属酸化物の化学量論から、プラスチックにおける重要な添加剤、さらに燃料中の硫黄まで、さまざまな製造プロセスの制御に利用されています。

リガクの関連装置


波長分散蛍光X線分析装置

波長分散小型蛍光X線分析装置 Supermini200

高出力200Wで広範囲なアプリケーションに対応

走査型蛍光X線分析装置 ZSX Primus IV

(Be)から(Cm)までの主要元素および微量元素の迅速な定量。

走査型蛍光X線分析装置 ZSX Primus III+

上面照射方式で粉末試料も安心、生産管理分析に威力を発揮。

走査型蛍光X線分析装置 ZSX Primus IVi

下面照射タイプの走査型蛍光X線分析装置

エネルギー分散蛍光X線分析装置

エネルギー分散型蛍光X線分析装置 NEX QC

NaからUまで定量分析(検量線法)ができます。

エネルギー分散型蛍光X線分析装置 NEX DE

ppmオーダーから主成分の元素分析が行えます。

エネルギー分散型蛍光X線分析装置 NEX QC+ QuantEZ

半定量分析等,高機能ソフトウェアを搭載したPCモデル.。
 

エネルギー分散型蛍光X線分析装置 NEX CG

環境分析や産業廃棄物、リサイクル原料等の広範囲に対応。

X線トポグラフ装置

ハイスループット&高分解能X線トポグラフイメージングシステム XRTmicron

転位などの結晶欠陥、表面への貫通転位やエピタキシャル層の欠陥などを検出

全反射蛍光X線分析装置

卓上型全反射蛍光X線分析装置 NANOHUNTER II

液体の高感度超微量元素分析を可能にします。 

熱分析装置

示差熱-熱重量同時測定装置

重量変化と吸熱・発熱反応の測定ができる熱分析装置です。

 

示差熱-熱重量同時測定装置

試料観察機能付き差動型示差熱天秤

 

インライン・オンライン製品

各種金属めっきやコーティング皮膜の付着量 ・厚みを計測することができます。

インライン対応測定ヘッド
大型ガラス基板上のコーティング皮膜やインライン生産中の測定対象を非破壊計測できるヘッドを提供します。