TXRF310Fab
全反射蛍光X線方式を採用し、ウェーハ表面上の汚染を非破壊・非接触で高感度に分析する装置です。300mm、200mmウェーハに対応し、軽元素Naから重元素Uまでの汚染元素を極微量で分析できます。ウェーハからの回折X線の妨害を除くステージ駆動方式を採用。正確かつ高精度な汚染元素分析が可能です。ウェーハ面内高速汚染マッピング測定 「Sweeping-TXRF機能」 や ウェーハエッジ近傍の測定を可能にした 「ZEE-TXRF機能」など、多彩な機能を搭載し、半導体量産工程やプロセス開発における汚染管理を強力にサポートします。
全反射蛍光X線分析装置
軽元素Naから重元素Uまでの汚染元素を極微量で分析
諸元/仕様
製品名 | TXRF 310 Fab |
手法 | 全反射蛍光X線(TXRF) |
用途 | 微量元素表面汚染の測定 |
テクノロジー | 3ビーム励起と自動光学アライメント |
主要コンポーネント | 回転対陰極X線発生源、XYθサンプルステージ |
オプション | フルファクトリーオートメーション用のGEM-300自動化ソフトウェア |
制御((PC) | 内部PC、MS Windows® OS |
本体寸法 | 1200 (W) x 2050(H) x 2546 (D) mm |
質量 | 1380 kg(本体) |
電源 | 三相 200 VAC 50/60 Hz, 30 A |